1.本发明属于皮肤伤口敷料技术领域，具体涉及一种席夫碱扩大共轭性的氮化碳伤口敷料及其制备方法。

背景技术：

2.皮肤是人体重要的组成部分，是抵御外界污染及细菌感染的天然屏障，但在生活中，皮肤不可避免地会受到一定损伤，继而受到细菌感染而引发一系列的疾病(如溃疡、慢性伤口、皮肤病、身体各个部位的炎症等)甚至死亡。伤口敷料作为预防和治疗细菌感染的方法得到了人们的广泛应用。一般而言，伤口敷料是通过将具有杀菌活性的物质(如天然抑菌剂、抗生素、金属离子)附着在纱布、纤维素、水凝胶等材料表面，以达到杀菌消毒的效果，但这些具有杀菌活性的物质受到了成本、抗生素耐药性、毒性、环境污染等方面的限制，因此迫切需要提出一种绿色、无毒、环保的策略来解决上述问题。

3.近年来，光催化技术广泛应用于产氢、污染物的降解、二氧化碳的还原等。该技术利用光激发光催化剂分离光生电子

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空穴，从而氧化周围的水分子产生的大量ros(即reactive oxygen species活性氧)，产生的ros可以侵入细胞内部破坏细菌细胞的dna和rna进而导致细菌死亡。大多数已经提出的光催化剂包括金属类(如tio2、zno、bi2o3、cu2o、mofs、mos2、cds)、非金属类(如g

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c3n4、cnts、go)，通常金属类光催化剂只能在紫外区域起作用，且它们除了在工业化量产上有难度，还存在对人体细胞有毒的问题。非金属类有机半导体g

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c3n4近年来受到了人们的关注，广泛的应用于光催化、水处理、食品消毒、杀菌等领域，但是g

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c3n4的禁带宽度约为2.7ev，存在光生电子

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空穴对复合的固有问题。为了克服这一问题，通常用贵金属作为助催化剂负载半导体进行电子转移，这样避免了光生电子

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空穴对的复合

18.。基于此，之前研究者们通过构建异质结的方法提高光生电子

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空穴的分离效率，但绝大多数研究都是通过二元或三元组分来提高g

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c3n4的光催化活性以达到杀菌消毒的目的，在没有助催化剂或牺牲供体的情况下(即二元或三元)，无金属光催化剂通常不能进行全面的水裂解从而生成活性氧，只有与金属基助催化剂偶联才能发挥良好的光催化性能。因此，在可见光照射下，在没有助催化剂或牺牲供体的情况下，开发新的策略来促进g

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c3n4的氧化还原活性，从而有效地提高光催化效率是十分必要的。

4.现有技术的缺陷和不足：伤口敷料是预防和治疗伤口感染最快速有效的途径。但现有的伤口敷料大多以抗生素、天然抑菌剂、金属离子为抑菌剂。但随着抗生素的广泛使用，越来越多的细菌产生耐药性，使抗生素的抑制效果下降;天然抑菌剂提取过程复杂，所需条件及方法较为严格，受到了成本的限制;金属离子除了对宿主细胞有一定的副作用，还对环境有害。